無塵車間溫濕度主要根據(jù)加工工藝要求確定.. 在滿足加工工藝的條件下，應(yīng)將人的舒適性作為首選。凈化實驗室均已通過醫(yī)藥潔凈檢測中心檢測，為萬級潔凈實驗室。主要開展項目為：CIK細(xì)胞免疫治療、DC－CIK免疫治療、超級免疫粒細(xì)胞治療等。空氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)必須可靠運行，采用先進(jìn)技術(shù)，合理利用和節(jié)約能源與資源，保證環(huán)境的質(zhì)量和安全，為實驗人員提供所需要的溫度和濕度，保障生物實驗在安全的條件下進(jìn)行，以確保實驗結(jié)果得準(zhǔn)確性。實驗室凈化參與多個醫(yī)療重點課題的實驗和臨床研究，同時參加國際會議和國內(nèi)重點峰會論壇，為當(dāng)今的細(xì)胞免疫治療和癌癥/肝病患者奉獻(xiàn)了自己的一份力量。潔凈實驗必須控制實驗室的潔凈度，對新風(fēng)進(jìn)行過濾，使實驗室達(dá)到一定的凈化要求。其中排風(fēng)系統(tǒng)是重點，對于保證實驗室相對負(fù)壓環(huán)境和有效過濾室內(nèi)污染排風(fēng)起著重要的作用。潔凈實驗室確保手術(shù)臺潔凈度達(dá)標(biāo)，一般多采用垂直層流式效果較好　層流手術(shù)室是一個"正壓"環(huán)境，其空氣壓力根據(jù)其不同區(qū)域（如手術(shù)間、無菌準(zhǔn)備間、刷手間、麻醉間和周圍干凈區(qū)域等）潔凈度不同要求而不同。 隨著空氣潔凈度要求的提高，技術(shù)對溫度和濕度的要求越來越高，我們必須達(dá)到一定的溫度和濕度水平，我們必須承擔(dān)資金和運營成本。

凈化工程的具體過程有不同的溫度要求，但作為一般原則，隨著加工精度越來越精細(xì)，對溫度波動范圍的要求越來越小。

例如，在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的平版曝光過程中，玻璃和硅片作為掩模材料的熱膨脹系數(shù)的差別越來越小。直徑為100微米的硅片在溫度升高1度時會引起0.24微米的線性膨脹。因此，有必要保持恒定的溫度？0.1度，濕度值一般較低，因為產(chǎn)品出汗后會受到污染，特別是在半導(dǎo)體車間，怕鈉，不應(yīng)超過25度。

濕度過大會造成更多的問題。當(dāng)相對濕度大于55%時，冷卻管壁會凝結(jié)，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，會引起各種事故。相對濕度為50%時，很容易生銹。此外，當(dāng)濕度過高時，附著在硅片表面的灰塵會被空氣中的水分子化學(xué)吸附在表面。相對濕度越高，去除粘附的難度越大，但當(dāng)相對濕度小于30%時，由于靜電的作用，顆粒也很容易吸附在表面，大量的半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。硅片生產(chǎn)的最佳溫度范圍為35≤45%。

此外，相對濕度有許多因素可能會降低潔凈室的整體性能，包括：細(xì)菌生長，房間在室溫下感覺舒適的范圍內(nèi)的靜電荷，金屬腐蝕，水蒸氣凝結(jié)，降解光刻等。

因此，濕度控制是無塵車間生產(chǎn)的重要條件。相對濕度是無塵車間和潔凈室運行中常見的環(huán)境控制條件。無塵車間典型相對濕度目標(biāo)值控制在30-50%范圍內(nèi)，允許誤差在較窄的范圍內(nèi)。1%。