: AMC是危害生產(chǎn)(Produce)工藝并導(dǎo)致成品率降低（reduce)的分子態(tài)化學(xué)物質(zhì),從AMC定義、分類、來源和去除方法進(jìn)行探討和分析(Analyse)。層流手術(shù)室凈化采用高效低毒消毒劑，以及合理使用，是保障一般手術(shù)室無菌環(huán)境的有力措施。根據(jù)不斷討論與反復(fù)斟酌，修訂后《綜合醫(yī)院建筑設(shè)計(jì)規(guī)范》中，關(guān)于一般手術(shù)室的條文最終確定為：“一般手術(shù)室應(yīng)采用末端過濾器不低于高中效過濾器的空調(diào)系統(tǒng)或全新風(fēng)通風(fēng)系統(tǒng)。
關(guān)鍵（解釋:比喻事物的重要組成部分)詞: 半導(dǎo)體;AMC;污染物;化學(xué)過濾器(作用:過濾雜質(zhì)等) 。
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半導(dǎo)體(semiconductor)生產(chǎn)制程包含精密(precise)的微機(jī)電和積體電路,對(duì)于生產(chǎn)環(huán)境之潔?Q度的要求特別嚴(yán)格,因此整個(gè)制造過程都在嚴(yán)格控制的環(huán)境條件下,也就是一般熟悉的潔?Q室。
在潔凈室技術(shù)中,污染不僅包括嚴(yán)格意義上的灰塵的微粒,還包括任何有干擾作用的固體、液體、氣體、熱、電磁。所以需要小心控制污染控制的生產(chǎn)(Produce)有關(guān)的環(huán)境,這可能會(huì)有負(fù)面影響的過程和產(chǎn)品的質(zhì)量。
大多數(shù)潔凈室會(huì)避免的懸浮微粒污染,因?yàn)槲⒘榇箢w粒,通過HEPA/ULPA過濾器(作用:過濾雜質(zhì)等)足以控制（control),但是懸浮分子污染,為小顆粒,傳統(tǒng)上,HEPA和ULPA是半導(dǎo)體(semiconductor)工藝中賴以控制微粒污染的技術(shù),但隨著尺寸由0.25μm快速演進(jìn)到0.13μm快甚至納米(2.5m/s)化學(xué)濾網(wǎng)。潔凈手術(shù)室裝修公司層流手術(shù)室的空氣壓力根據(jù)其不同區(qū)域（如手術(shù)間、無菌準(zhǔn)備間、刷手間、麻醉間和周圍干凈區(qū)域等）潔凈度不同要求而不同。不同級(jí)別的層流手術(shù)室其空氣潔凈度標(biāo)準(zhǔn)不同。
2)設(shè)備進(jìn)氣口之高效過濾風(fēng)機(jī)(Draught Fan)組單元(FFU)上游處,設(shè)置低風(fēng)速型,(VV>1.2m/s)。
3 結(jié)語
當(dāng)前半導(dǎo)體(semiconductor)制程技術(shù)發(fā)展迅猛,芯片(又稱微電路)線寬已經(jīng)進(jìn)入納米級(jí),因此半導(dǎo)體潔凈室內(nèi)AMC的控制更顯重要。層流手術(shù)室凈化采用高效低毒消毒劑，以及合理使用，是保障一般手術(shù)室無菌環(huán)境的有力措施。根據(jù)不斷討論與反復(fù)斟酌，修訂后《綜合醫(yī)院建筑設(shè)計(jì)規(guī)范》中，關(guān)于一般手術(shù)室的條文最終確定為：“一般手術(shù)室應(yīng)采用末端過濾器不低于高中效過濾器的空調(diào)系統(tǒng)或全新風(fēng)通風(fēng)系統(tǒng)。在AMC的控制中的首要步驟是通過監(jiān)測(cè)（Food Monitor)分析,識(shí)別污染的來源和通過調(diào)整材料和工藝流程以去除污染物。同時(shí)在新風(fēng)、循環(huán)風(fēng)以及機(jī)臺(tái)側(cè)考慮（consider)安裝合適的化學(xué)過濾器(作用:過濾雜質(zhì)等),來保護(hù)生產(chǎn)環(huán)境。第三,對(duì)于潔凈室內(nèi)某區(qū)域溫濕度異常波動(dòng),需要巧妙運(yùn)用在線檢測(cè)的數(shù)據(jù)（data),去系統(tǒng)分析任何一次超出控制的異常情況,找到引起溫濕度異常波動(dòng)的真實(shí)原因,從而找到有效的對(duì)策以避免問題的再次發(fā)生。最后對(duì)整個(gè)半導(dǎo)體代工業(yè)的潔凈室技術(shù)的現(xiàn)狀和新技術(shù)進(jìn)行總結(jié)和比較,并展望本行業(yè)將來的發(fā)展趨勢(shì)（trend)。