淺談AMC在潔凈室中的重要性
sdqdyl.com 2019-02-27 22:18:30 閱讀
摘要: AMC是危害生產(chǎn)工藝并導(dǎo)致成品率降低的分子態(tài)化學(xué)物質(zhì),從AMC定義、分類、來源和去除方法進(jìn)行探討和分析。 關(guān)鍵詞: 半導(dǎo)體;AMC;污染物;化學(xué)過濾器 。
0 引言
半導(dǎo)體生產(chǎn)制程包含精密的微機(jī)電和積體電路,對(duì)于生產(chǎn)環(huán)境之潔?Q度的要求特別嚴(yán)格,因此整個(gè)制造過程都在嚴(yán)格控制的環(huán)境條件下,也就是一般熟悉的潔?Q室。在潔凈室技術(shù)中,污染不僅包括嚴(yán)格意義上的灰塵的微粒,還包括任何有干擾作用的固體、液體、氣體、熱、電磁。所以需要小心控制污染控制的生產(chǎn)有關(guān)的環(huán)境,這可能會(huì)有負(fù)面影響的過程和產(chǎn)品的質(zhì)量。
大多數(shù)潔凈室會(huì)避免的懸浮微粒污染,因?yàn)槲⒘榇箢w粒,通過HEPA/ULPA過濾器足以控制,但是懸浮分子污染,為小顆粒,傳統(tǒng)上,HEPA和ULPA是半導(dǎo)體工藝中賴以控制微粒污染的技術(shù),但隨著尺寸由0.25μm快速演進(jìn)到0.13μm快甚至納米(2.5m/s)化學(xué)濾網(wǎng)。
2)設(shè)備進(jìn)氣口之高效過濾風(fēng)機(jī)組單元(FFU)上游處,設(shè)置低風(fēng)速型,(VV>1.2m/s)。
3 結(jié)語
當(dāng)前半導(dǎo)體制程技術(shù)發(fā)展迅猛,芯片線寬已經(jīng)進(jìn)入納米級(jí),因此半導(dǎo)體潔凈室內(nèi)AMC的控制更顯重要。在AMC的控制中的首要步驟是通過監(jiān)測分析,識(shí)別污染的來源和通過調(diào)整材料和工藝流程以去除污染物。同時(shí)在新風(fēng)、循環(huán)風(fēng)以及機(jī)臺(tái)側(cè)考慮安裝合適的化學(xué)過濾器,來保護(hù)生產(chǎn)環(huán)境。第三,對(duì)于潔凈室內(nèi)某區(qū)域溫濕度異常波動(dòng),需要巧妙運(yùn)用在線檢測的數(shù)據(jù),去系統(tǒng)分析任何一次超出控制的異常情況,找到引起溫濕度異常波動(dòng)的真實(shí)原因,從而找到有效的對(duì)策以避免問題的再次發(fā)生。最后對(duì)整個(gè)半導(dǎo)體代工業(yè)的潔凈室技術(shù)的現(xiàn)狀和新技術(shù)進(jìn)行總結(jié)和比較,并展望本行業(yè)將來的發(fā)展趨勢。
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